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光（Fracture）：修订间差异
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===技能=== | ===技能=== | ||
溢出 - 简单模式回忆率，但当回忆率到达100%后转变为困难。 | 溢出 - 简单模式回忆率，但当回忆率到达100%后转变为困难。<br>（OVERFLOW - EASY Recollection Rate HARD upon reaching 100% Recollection） | ||
*无论在Clear时是否已经进入困难模式回忆率，使用该技能达成的Clear均属于Easy Clear，因此进入困难模式之后Track Lost可能导致[[潜力值]]降低。 | *无论在Clear时是否已经进入困难模式回忆率，使用该技能达成的Clear均属于Easy Clear，因此进入困难模式之后Track Lost可能导致[[潜力值]]降低。 | ||